반응형 노광장비#EUV#ASML#High-NA EUV1 반도체 장비 - EUV 노광장비(ASML) 2001년, ArF 노광기가 양산에 적용된 지 거의 20년 만에 차세대 노광기인 EUV가 출시되었습니다. EUV의 파장은 13.5nm로 사실상 Soft X-ray에 가까워 장비 구현에 어려움이 컸습니다. EUV 출시가 서플라이 체인에 미치는 영향을 다루기에 앞서, 현재 유일한 EUV 제조사인 ASML의 21년 Investorday 내용을 참고로 EUV의 개략적인 전망에 대해 정리하고자 합니다. ■ ASML EUV 장비 ASML의 전망에 따르면, 25년 EUV의 총 채용 대수는 21년 대비 두배 이상 증가할 것으로 예상합니다. 특히 Logic(Foundry)에서의 채용 대수가 2.5배 가까이 증가하며 전체 수요를 주도할 것으로 전망됩니다. Throughput(시간당 Wafer 처리량) 또한 지속적으로 개선.. 2022. 6. 20. 이전 1 다음 반응형