반응형 세정공정#건조공정#파티클세정1 반도체 전공정 - 세정(Cleaning)공정 세정공정은 개별 단위공정 사이 공정의 잔여 이물질을 제거하는 공정으로 반도체 수율과 직결될뿐만 아니라, 전체 반도체 공정의 약 15%를 차지하는 핵심 공정이다. ■ 세정 공정 정의 및 Flow 세정공정은 세정하는 방식에 따라, 액상소재를 사용하는 Wet Cleaning과 물리적 자극을 사용하는 Physical Cleaning, 소재를 따로 사용하지 않는 Dry Cleaning으로 분류할 수 있다. 특히 높은 비중을 차지하는 Wet Cleaning의 경우, 사용하는 세정 장비에 따라 Chemical이 담긴 Bath에 Batch 단위의 웨이퍼를 담궈 세정하는 Bench Dip 방식과 웨이퍼 낱장 단위로 Chamber 내에서 Chemical을 분사해 사용하는 Single Spray 방식으로 나눌 수 있다. ■.. 2022. 6. 18. 이전 1 다음 반응형