반응형 식각공정#습식식각#건식식각#Etching1 반도체 전공정 - 식각(Etching)공정 식각(Etching) 공정은 회로 패턴 형성을 위해 필요 없는 부분을 선택적으로 제거하는 공정입니다. 식각의 매개체로 가스를 사용하는 식각은 건식 식각(Dry Etching)이라고 하며, 액상 화학물질 (Etchant)을 사용하는 식각을 습식 식각(Wet Etching)이라고 합니다. ■ 습식 식각 vs 건식 식각 ■ 습식 식각의 특징 신속성: 액체상태의 반응이기 때문에 반응물의 밀도가 낮은 기체 반응인 건식 식각 대비 속도(Etch rate)가 빠릅니다. 높은 선택성(Selectivity): Etchant의 화학반응에만 의존해 반응하기 때문에 대상 물질의 조성에 따라서 식각 되는 정도를 조절 가능합니다. 경제성: Etchant에 대한 의존도가 높기 때문에 장비에 대한 의존도가 상대적으로 낮고 다수의 기.. 2022. 6. 18. 이전 1 다음 반응형