반응형 플라즈마#Plasma1 반도체 기초 - 플라즈마(Plasma) 플라즈마는 많은 양의 양이온과 전자를 생성하기 때문에 높은 밀도를 갖습니다. 양이온은 양이온까지, 전자는 전자끼리 그룹을 지어 몰려다니는 운동형태를 보이는데, 이는 서로 중성 상태를 만들려는 힘에 의해 활발한 운동에너지로 나타납니다. 반도체 공정에서도 플라즈마의 도입이 많아지는 추세입니다. 특히 막을 만들 때에는 분자 단위나 원자 단위의 화학적/물리적 기법을 이용합니다. 이때 섭씨 1,000(CVD)까지 올려야 하므로, 다른 부위에 바람직하지 않은 영향을 줍니다, 따라서 저온 플라즈마를 다양하게 활용하고 있습니다. ■ 진공관에서 출발한 플라즈마 19세기에는 유리 공업과 진공 기술을 혼합시킨 진공관에 대한 연구가 이뤄지면서 음극선관(크록스관)에서 나오는 현란한 전자빔(플자즈마의 일종)의 기교를 활용하여 진.. 2022. 7. 10. 이전 1 다음 반응형