반응형 확산(Diffusion)#Nitridation(질화)#산화(Oxidation)#Thermal/Annealing(어닐링)1 반도체 전공정 - 확산/열처리(Diffusion/Thermal)공정 확산(Diffusion)은 통상적으로 농도 차이에 의해 입자가 퍼지는 것을 의미하나, 반도체 에서의 확산 공정은 주로 열(Thermal)을 동반하기에 Thermal Process와 혼용해 사용합니다. 확산의 방식으로 박막을 형성시키는 LP-CVD, Epitaxy, ALD 등 일부 Deposition 공정은 광의의 Diffusion 공정의 영역과 겹치기도 하나 이번 섹션에서는 Treatment의 측면을 중점으로 설명드리겠습니다. ■ 확산(Diffusion) 공정 정의 및 분류 Treatment 공정은 별도의 소재를 통해 새로운 박막을 형성시키거나 제거하는 것이 아니라, 기존 박막의 변성과 성질 변화 등을 유도하는 공정이다. 대표적으로 박막을 산화(Oxidation) 시키는 공정과 질화(Nitridation.. 2022. 6. 18. 이전 1 다음 반응형