반응형 ALD #원자층증착 #CVD공정 #반도체증착 #반도체공정 #반도체장비1 반도체 장비 - ALD(Atomic Layer Deposition) 장비 ALD(Atomic Layer Deposition-원자층 증착) 공정은 원자 단위로 박막을 증착시키는 CVD 공정의 방식입니다. CVD와의 공통점은 기체 상태의 프리커서가 공급되고 결과적으로 박막을 형성한다는 점이고, 차이점은 기체 간의 반응으로 박막이 형성되는 것이 아니라 기체와 표면 간의 반응으로만 박막을 형성한다는 점입니다. 독성이 없고 환경 친화적이며 우수한 변동성을 가지고 있어 합성 및 핸들링이 쉬워 필름, 기판 소재의 제품을 만들 때 주로 사용됩니다, ■ ALD(Atomic Layer Deposition) ALD의 특징은 PVD와 같은 물리적 방식이 아닌, CVD와 유사한 화학적 방식이라는 것입니다. 하지만 PVD나 CVD는 여러 입력 소스를 동시에 공급해 여러 분자들이 표면에서 반응하면서 한.. 2022. 10. 28. 이전 1 다음 반응형