반응형 CVD #LP-CVD #유진테크 #KokusaiElectric #LamResearch #TEL # AppliedMaterials1 반도체 장비 - LP-CVD(Low Pressure CVD)장비 LP-CVD(Low Pressure CVD)는 Thermal CVD 장비의 일종으로 Chamber 내부에 투입한 두 가지 이상의 기체를 고온/저압, 플라즈마를 이용하여 분해한 후에 화학반응을 일으켜 증착하고자 하는 조성의 물질을 생성하고 이를 기판에 증착하는 공정을 말합니다. 우수한 균일성과 높은 순도의 박막을 형성할 수 있고, 표면상 균일(Conformal)한 Stepcoverage 특성을 갖는 장점이 있습니다. 반면, 고온 공정의 한계로 열에 약한 소자 이후에는 공정이 제한적일 뿐만 아니라 증착 속도가 느린 단점이 있습니다. 현재 일반적인 CVD의 형태의 장비라고 할 수 있겠습니다. ■ LP CVD 장비 LP-CVD로 형성하는 주요 박막은 Poly-Si, SiO2, Si3N4 등이 있습니다. LP-C.. 2022. 10. 14. 이전 1 다음 반응형