반도체 장비 - 세정 장비(Wet/Clean)

반도체-세정-장비

글로벌 세정장비 시장 규모는 47억 달러 규모로 전체 반도체 장비 시장에서 차지하는 비중은 5% 수준입니다. 연평균 성장률은 17%로 반도체 장비 전체의 성장률에 소폭 미치지 못합니다. 도금 및 CMP 장비와 같이 장비의 기술력보다는 상대적으로 소재의 중요성이 높은 분야임에도 불구하고, 모든 공정의 전후에는 세정과정이 포함되기에 물량이 많고 유의마한 비중을 차지한다고 볼 수 있습니다. 21년 성장률은 YoY +52%로 시장 전체의 성장률(YoY +42%)을 크게 앞섰습니다.

■ 세정 장비

세정 방식 기준으로는 Spray 방식이 전체의 80%를 차지합니다. Spray 방식의 시장 규모가 압도적으로 큰 이유는, Bench Dip 방식의 경우 동시에 수십장의 웨이퍼를 세정하기에 상대적으로 장비의 대수가 적게 필요하기 때문이며, 동시에 최근 미세공정의 고도화로 인한 웨이퍼 간 오염 문제, 세정액의 물질이 다양화되는 이슈등으로 Spray 방식의 수요가 증가했기 때문입니다.

 

■ Wet/Clean 장비 시장규모 추이 ■

글로벌-Wet-Clean-장비-시장규모-추이(자료-미래에셋증권)

 

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■ 업체별 시장 점율률

업체별 점유율 측면에서는, 21년 기준으로 일본의 Screen 사의 점유율이 39%, TEL 24%로 일본업체들의 비중이 높은 편입니다. SEMES의 점유율도 21%로 국내 장비업체 중에 상대적으로 높은 점유율을 점유하고 있습니다. 비록 글로벌 시장 데이터에 집계는 되지 않았으나, 한국 세정장비 회사인 제우스의 경우에도 21년간의 반도체 세정장비 매출액 2,600억을 기록하였습니다.

■ 세정장비 관련 기업

업종	업체명
Wet Station	Screen Holdings
	TEL
	NAURA
Single Spray	Screen Holdings
	TEL
	Lam Research
	SEMES
	ACM Research
	제우스
Batch Spray	TEL